熱蒸發(fā)鍍膜是一種常用的物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、太陽能、裝飾等領(lǐng)域。
這種技術(shù)通過將物質(zhì)加熱至蒸發(fā)溫度，并使蒸發(fā)后的原子或分子在基材表面凝結(jié)形成薄膜的過程。
工作原理：
熱蒸發(fā)鍍膜的基本原理是利用高溫加熱源（如鎢絲、鎳絲等）將待鍍物質(zhì)加熱至蒸發(fā)溫度，形成蒸汽流。
這些蒸汽分子被導(dǎo)向基材表面，冷凝成薄膜。
熱蒸發(fā)的物質(zhì)通常為金屬、合金、氧化物或其他材料，基材可以是玻璃、塑料、金屬等。
主要設(shè)備：
蒸發(fā)源：主要由電加熱的鎢絲或金屬槽組成，用于加熱待蒸發(fā)的物質(zhì)。
真空腔體：為了防止蒸發(fā)過程中分子與空氣發(fā)生反應(yīng)，鍍膜通常在真空環(huán)境中進(jìn)行。
基材支架：承載待鍍膜的物品，并可以在真空室內(nèi)旋轉(zhuǎn)，以確保鍍膜的均勻性。
冷凝表面：接收蒸發(fā)的物質(zhì)，通常與基材表面平行，幫助形成薄膜。
優(yōu)勢：
均勻性高：在良好的真空環(huán)境下，熱蒸發(fā)鍍膜能夠?qū)崿F(xiàn)均勻的薄膜涂層。
高質(zhì)量膜層：蒸發(fā)薄膜的結(jié)構(gòu)緊密，具有良好的光學(xué)、電氣及機械性能。
適用材料廣泛：可以用于金屬、氧化物、硅、氮化物等多種材料的鍍膜。
靈活性強：可以調(diào)節(jié)蒸發(fā)溫度、沉積速率等工藝參數(shù)，滿足不同應(yīng)用需求。
熱蒸發(fā)鍍膜
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